Согласно информации из достоверных источников, в Китае создан опытный образец фотолитографической системы, использующей экстремальное ультрафиолетовое (EUV) излучение. В его разработке участвовала группа бывших сотрудников ASML, которая, по сути, воспроизвела инженерные решения нидерландской компании. Сообщается, что китайская установка успешно начала генерацию EUV, однако пока ей не удаётся изготавливать функционирующие микросхемы.
В апреле глава ASML, Кристоф Фуке, выразил мнение, что Китаю потребуется очень продолжительное время для освоения EUV-литографии. Тем не менее, появление этого прототипа свидетельствует о том, что Китай может быть гораздо ближе к достижению независимости в полупроводниковой отрасли, чем ранее предполагалось. По информации источников, использование компонентов от устаревших систем ASML, доступных на вторичном рынке, позволило китайцам разработать собственный прототип, который, как ожидается, позволит наладить выпуск работающих чипов к 2028 году.
Этот значительный прогресс является результатом шестилетней правительственной программы, направленной на достижение независимости в сфере полупроводников. Хотя о своих намерениях Китай заявлял открыто, "Китайский Манхэттенский проект" по созданию собственного EUV-литографа реализовывался в строжайшей тайне. "Задача состоит в том, чтобы Китай в конечном итоге смог производить передовые микросхемы на оборудовании, полностью изготовленном в Китае, — отметил один из источников. — Китай стремится полностью исключить Соединённые Штаты из своих цепочек поставок".
На сегодняшний день лишь компания ASML смогла успешно внедрить EUV-технологию. Её оборудование, оцениваемое примерно в 250 миллионов долларов за единицу, играет ключевую роль в изготовлении передовых микросхем, спроектированных Nvidia, AMD и производимых TSMC, Intel и Samsung. Компания ASML представила первый прототип EUV ещё в 2001 году, однако для запуска коммерческого производства чипов на основе этой технологии в 2019 году потребовалось около двадцати лет и огромные финансовые вложения.
EUV-системы ASML сейчас доступны союзникам США, включая Южную Корею, Тайвань и Японию. Начиная с 2018 года, Соединённые Штаты оказывали влияние на Нидерланды с целью воспрепятствовать поставкам EUV-систем ASML в Китай. В 2022 году американское правительство ввело масштабные ограничения на экспорт, направленные на отрезание Китая от доступа к современной полупроводниковой индустрии. ASML заявляет, что ни одна EUV-система никогда не была продана китайским клиентам.
Экспортные ограничения коснулись не только EUV-систем, но и оборудования предыдущих поколений, использующего DUV-литографию. В настоящее время Госдепартамент США сотрудничает с партнерами для предотвращения обхода экспортных ограничений. Министерство обороны Нидерландов, в свою очередь, объявило о внедрении политики, обязывающей "институты знаний" проводить тщательные проверки персонала, чтобы предотвратить утечку конфиденциальных данных. По некоторым сведениям, ASML в 2023 году совершила действия, подорвавшие доверие США, а после обнаружения этих действий, предложила американской стороне осуществлять слежку за её китайскими клиентами.
Несмотря на усилия по ограничению доступа Китая к передовым технологиям, страна активно развивает собственную полупроводниковую промышленность. Китайские компании инвестируют значительные средства в исследования и разработки, стремясь создать собственное оборудование для производства чипов, включая альтернативы EUV-литографии. Этот процесс, безусловно, требует времени и значительных ресурсов, но желание обеспечить технологическую независимость является мощным стимулом.
В условиях глобальной конкуренции в полупроводниковой отрасли, экспортные ограничения и технологические барьеры создают новые вызовы и возможности для всех игроков. Компании, стремящиеся сохранить лидерство, вынуждены адаптироваться к меняющимся условиям, искать альтернативные решения и укреплять свои позиции на рынке.
Влияние ограничений на экспорт полупроводникового оборудования выходит за рамки отдельных компаний и стран. Они изменяют ландшафт мировой торговли, стимулируют развитие новых технологических центров и перераспределяют потоки инвестиций. Важно учитывать, что подобные меры могут иметь как краткосрочные, так и долгосрочные последствия для глобальной экономики.
Будущее полупроводниковой индустрии будет определяться балансом между инновациями, конкуренцией и геополитическими факторами. Успех в этой области потребует от компаний гибкости, стратегического мышления и умения адаптироваться к быстро меняющимся условиям.
По сообщениям, Китай нанимает бывших сотрудников ASML, используя повышенные меры секретности и фальшивые удостоверения личности, для обратного проектирования компонентов EUV и DUV литографических машин. Команда из 100 человек, состоящая из недавно вышедших на пенсию инженеров и ученых ASML китайского происхождения, работает под постоянным видеонаблюдением и получает бонусы за эффективную работу.
Законы о защите персональных данных и трудности с соблюдением соглашений о неразглашении за границей ограничивают возможности ASML по контролю за бывшими сотрудниками. Несмотря на судебную победу ASML в 2019 году по делу о краже коммерческих секретов, ответчик по-прежнему работает в Пекине при поддержке китайского правительства.
Голландская разведка обвиняет Китай в использовании шпионажа для получения передовых технологий, включая вербовку западных ученых и сотрудников высокотехнологичных компаний. Утверждается, что именно опыт ветеранов ASML сделал возможным прорыв в "Китайском Манхэттенском проекте", так как без их знаний реверс-инжиниринг оборудования был бы практически невозможен.
Китай с 2019 года активно вербует экспертов в области полупроводников, предлагая высокие бонусы и субсидии. Китайский прототип EUV-литографической системы, хотя и уступает ASML, достаточно работоспособен для испытаний. Проблемы остаются в оптических системах, поставляемых Carl Zeiss. Чанчуньский институт оптики добился прорыва в интеграции экстремального ультрафиолетового излучения и предлагает высокие зарплаты исследователям. Экс-инженер ASML Джефф Кох считает, что Китай достигнет "значительного прогресса", так как коммерческое EUV-производство уже существует.
Несмотря на существующие ограничения экспорта технологий, Китай демонстрирует упорство в стремлении к технологической независимости в полупроводниковой отрасли. Активная вербовка иностранных специалистов, особенно из компаний с передовым опытом, таких как ASML и Carl Zeiss, позволяет быстро аккумулировать знания и компетенции. Предлагаемые финансовые стимулы значительно превосходят те, что могут предложить западные компании, что делает переход в китайские исследовательские институты привлекательным для многих экспертов.
Практическая демонстрация прототипа EUV-литографа, пусть и уступающего решениям ASML, имеет огромное символическое значение. Это доказывает, что Китай способен самостоятельно развивать сложные технологические решения, несмотря на внешнее давление. Дальнейшее совершенствование прототипа, особенно в части оптических систем, зависит от успехов в координации усилий различных исследовательских институтов и компаний.
Прорыв Чанчуньского института оптики в интеграции экстремального ультрафиолетового излучения является важным шагом на пути к созданию полноценной EUV-литографии. Этот успех свидетельствует о наличии потенциала для дальнейших инноваций в данной области. Высокие зарплаты, предлагаемые исследователям, способствуют привлечению талантливых специалистов и стимулируют научные исследования.
Оптимистическая оценка Джеффа Коха относительно прогресса Китая в области EUV-технологий подкреплена существующей коммерческой базой. Китай не начинает с нуля, а имеет возможность опираться на уже существующие решения и адаптировать их к своим потребностям. В долгосрочной перспективе это может привести к созданию конкурентоспособной китайской EUV-литографии, что значительно изменит глобальный ландшафт полупроводниковой промышленности.
Для приобретения требуемых запчастей, китайская сторона разбирает устаревшие устройства ASML и приобретает их составляющие у дистрибьюторов ASML через вторичные рынки. Информаторы утверждают, что международные финансовые организации систематически устраивают торги по бывшему в употреблении полупроводниковому оборудованию, которое ранее сдавалось в аренду. Например, на площадке Alibaba Auction еще в октябре 2025 года можно было приобрести подержанные литографические системы ASML. С целью сохранения анонимности окончательного потребителя используются многоуровневые сети фирм-посредников. По непроверенным данным, в китайском прототипе применяются элементы от японских производителей Nikon и Canon, на экспорт которых наложены ограничения. Представители обеих фирм воздержались от комментариев.
Хотя сам процесс разработки EUV-сканера контролируется правительством Китая, ключевую роль в нем играет Huawei. Компания вовлечена в каждую стадию логистической цепочки, начиная с разработки микросхем и производственного оборудования, заканчивая производством и итоговой сборкой. По словам источника, глава Huawei Жэнь Чжэнфэй лично докладывает высокому руководству Китая о прогрессе в работе над проектом.
Статья Reiters переведена и адаптирована сотрудниками GridCore
